第867章 星耀科研所

第867章 星耀科研所

星耀科研所正式掛牌運營。

倪廣南帶着之前的團隊,開始了又一輪晶片研發的工作。

而這一次,倪廣南仍舊堅持發展自主晶片和作業系統,並且對外不止一次宣稱,呼籲上頭和各大企業支持Linux在華夏的發展。

倪廣南所要做的,便是要基於Linux發展自主作業系統,建立華夏自主、完整的軟件產業體系。

對於這一點,楚天耀當然是十分支持。

而在他的心頭,還有着另外一項計劃。

那就是解決國產光刻機之痛。

光靠華夏現在的科研力量,根本無法實現自主研發光刻機,所以楚天耀心中的想法,便是花錢買。

而問題的原點,又回到了資本上。

他不得不承認,自己如今又缺錢了。

所以星耀集團必須早日上市。

不過值得楚天耀高興的是,星耀集團集團化的事已經塵埃落定,並且IPO申請書也正式通過。

興許是因為花大錢搞科研所的事,為楚天耀引得了不小的名聲,星耀集團在內的上市的事並沒有遇到什麼困難,甚至異常的順風順水。

1996年11月27日。

星耀集團正式在深交所上市。

因為有着之前科研所的聲勢造勢,以及良好的財報,所以星耀集團一經上市,股價便不停的上漲,甚至接連出現了好幾日的漲停板。

星耀集團的股價,從一開始的一塊三毛錢,一路上漲至了八塊九毛,並且股價還在不斷的往上漲。

畢竟是打着科技名頭上市的企業,楚天耀製造出來的噱頭可不少,再加上星耀集團旗下幾大公司的漂亮財報,一經發佈便早已惹得眾多投資者紛紛重視。

而反觀同樣是披着科技名頭上市的企業,聯想集團在港上市,如今的股價竟然也只是在六塊到八塊之間波動。

二者竟然相差無幾。

這倒是讓不少人為之咂舌。

而聯想集團股價上不去,柳傳智也有些頭疼,甚至將怒火遷移到了星耀集團上頭。

他認為正是因為星耀集團披着科技企業的名頭上市,影響了同為科技企業的聯想集團。

於是乎,在柳傳智的示意下,坊間開始出現了不少針對星耀集團的負面新聞。

諸如星耀集團成立的科研所,只是為了抬升股價,倪廣南等人皆是為了利益,博取大眾的眼球。

畢竟,細數星耀集團旗下企業,除了星耀科技之外,其他的還真跟科技兩個字不沾邊。

也正是因為如此,這些負面新聞倒是起到了一些作用。

眼看星耀集團股價正準備衝破九塊時,勢頭忽然減慢了。

深市。

星耀集團總部大樓。

楚天耀正計劃着如何實現自己的光刻機計劃。

他眼下有幾條路可以走。

一是西方的技術禁令還未徹底實行,他眼下還能通過資金從阿麥斯高價挖來人才,自主研發光刻機。

但沒有專利,研發之路可是漫長無期。

還有一條路,那便是前往台島。

台積電手下有成熟的半導體研發技術,楚天耀沒記錯的話,台積電日後甚至還能掌握EUV光刻機技術,若是他提前出手與台積電合作,說不定能趁機分一杯羹。

“只是,這台積電如今發展勢頭良好,又怎麼可能平白無故跟我合作,再說我就這麼去,意圖也太明顯了。”

辦公室里,楚天耀托着下巴,陷入了思考當中。

他之所以能有今日,並非是因為他天生就比別人聰明,而是楚天耀作為重生者,深度掌握了三十年後的大勢。

光刻機可是高端製造企業的命門,所以他才會如此看重。

而眼下正是各國光刻機發展最為初期的時候,這時候他不想辦法彎道超車,提前入場,只怕再過幾年等米國等國醒悟過來,開始搞技術封鎖,那到時候對華夏而言,才是重大打擊。

“只是,光刻機技術可是核心,阿斯麥雖然不錯但眼下已經被米國把控,再過幾年應該就能生產出高端光刻機了,拿到他們的技術顯然是不可能了,剩下的企業里,還能做出光刻機的……”

自言自語之時,楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本雜誌。

那是一本宣傳相機的雜誌,封面上便是來自島國尼康的相機。

“對了,我怎麼把他給忘了。”

楚天耀眼前一亮,這才想起自己差點忘記了一件極其重要的事。

“仔細算算時間,眼下正是157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭的開始,而尼康公司也正是因為押錯了寶,所以才跌落神壇。”

楚天耀神色有些激動,正是因為他重生而來的記憶,讓他又一次敏銳的察覺到了一次巨大的機緣。

說起這157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法,其實只是光刻機兩種不同技術。

放眼九十年代,光刻機的光源波長還被卡死在193NM,成為了全產業的面前的一道難關。

只有將光源波長做的越短,晶片的精度才會越高。

而率先研發出高精度晶片的企業,註定會領跑整個行業,將其他企業牢牢地摔在身後。

而針對這項技術,市面上出現了兩種方法。

那就是157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法。

尼康等公司主張在前代的技術基礎上,採用157NM的F2激光,走穩健道路。

而新生的EUVLLC聯盟,則押注於更激進的極紫外技術,用僅有十幾納米的極紫外光,刻十納米以下的晶片製程。

但不管是這兩種技術中的哪一種,技術要求都極其不易。

然而在這個時候,台積電一個叫做林本間的鬼才工程師出現了。

降低光的波長,光源出發是根本方法,高中學生都知道,水會影響光的折射率。

在透鏡和矽片之間加一層水,原有的193nm激光經過折射,不就直接越過了157nm的天塹,降低到132nm了!

林本間拿着這項沉浸式光刻方案,興奮的跑去了米國、德國以及島國,遊說各家半導體巨頭。

然而他的方案最終並沒有得到認可,甚至還有不少人覺得這傢伙就是來搞事的,甚至不止一次警告台積電。

畢竟這只是理想情況,在精密的機器中加水構建浸潤環境,既要考慮實際性能,又要操心污染。如果為了這一條短期替代方案,耽誤了光源研究,吃力不討好只是其次,被對手反超可就不好看了。

所以,作為大廠的尼康,選擇了在157nm上一條道走到黑,進行光刻機的技術突破。

而在這個時候,也正是阿斯麥公司登場的時候。

一個位於丹麥,只有幾十人團隊的小角色。

誰都沒有想到,阿斯麥竟然和林本間一拍即合,二者賭了一波大的,竟然真的在幾年後研發出了第一台樣機。

也正是因為先人一步,他們成功拿下了IBM和台積電等大客戶的訂單,一躍成為了光刻機大廠。

然而,尼康雖然靠着技術突破,也研發出了乾式微影157nm技術的成品,但畢竟被阿斯麥搶了風頭,更何況波長還略落後於對手,等到一年後又完成了對浸潤式技術的追趕,客戶卻已經不承認“老情人”,畢竟光刻機又不是小朋友玩具,更替要錢,學習更要成本。

至此,尼康在光刻機舞台上,正式黯然離場。

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重生1993

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